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产品中心 PRODUCT CENTER
气体质量流量控制器 MFCW-01 Model
薄膜沉积
离子注入
刻蚀工艺
单晶圆清洗
测量介质 气体
量程范围(N2 Eqv) 2SCCM-10SCCM
控制范围 量程比50:1, 100:1可选
响应时间 ≤1.0sec
精度等级 ≤ 设定值的±1%
线性度 ≤ 满量程的 0.5%
重复性 ≤ 满量程的± 0.2%
耐压 橡胶：Max 1.5 MPa ;金属：Max 3 MPa
气体质量流量控制器 MFCW-02 Model
薄膜沉积
离子注入
刻蚀工艺
单晶圆清洗
测量介质 气体
量程范围(N2 Eqv) 10SCCM-5SLM
控制范围 量程比50:1, 100:1可选
响应时间 ≤1.0sec
精度等级 ≤ 设定值的±1%
线性度 ≤ 满量程的 0.5%
重复性 ≤ 满量程的± 0.2%
耐压 橡胶：Max 1.5 MPa ;金属：Max 3 MPa
气体质量流量控制器 MFCW-03 Model
薄膜沉积
离子注入
刻蚀工艺
单晶圆清洗
测量介质 气体
量程范围(N2 Eqv) 5SLM-50SLM
控制范围 量程比50:1, 100:1可选
响应时间 ≤1.0sec
精度等级 ≤ 设定值的±1%
线性度 ≤ 满量程的 0.5%
重复性 ≤ 满量程的± 0.2%
耐压 橡胶：Max 1.5 MPa ;金属：Max 3 MPa
气体质量流量控制器 MFCW-04 Model
薄膜沉积
离子注入
刻蚀工艺
单晶圆清洗
测量介质 气体
量程范围(N2 Eqv) 50SLM-100SLM
控制范围 量程比50:1, 100:1可选
响应时间 ≤1.0sec
精度等级 ≤ 设定值的±1%
线性度 ≤ 满量程的 0.5%
重复性 ≤ 满量程的± 0.2%
耐压 橡胶：Max 1.5 MPa ;金属：Max 3 MPa
气体质量流量控制器 MFCW-05 Model
薄膜沉积
离子注入
刻蚀工艺
单晶圆清洗
测量介质 气体
量程范围(N2 Eqv) 100SLM-300SLM
控制范围 量程比50:1, 100:1可选
响应时间 ≤1.0sec
精度等级 ≤ 设定值的±1%
线性度 ≤ 满量程的 0.5%
重复性 ≤ 满量程的± 0.2%
耐压 橡胶：Max 1.5 MPa ;金属：Max 3 MPa
气体质量流量控制器 MFCW-06 Model
薄膜沉积
离子注入
刻蚀工艺
单晶圆清洗
测量介质 气体
量程范围(N2 Eqv) 50SLM-200SLM
控制范围 量程比50:1, 100:1可选
响应时间 ≤1.0sec
精度等级 ≤ 设定值的±1%
线性度 ≤ 满量程的 0.5%
重复性 ≤ 满量程的± 0.2%
耐压 橡胶：Max 1.5 MPa ;金属：Max 3 MPa
气体质量流量控制器 MFCW-07 Model
薄膜沉积
离子注入
刻蚀工艺
单晶圆清洗
测量介质 气体
量程范围(N2 Eqv) 300SLM-500SLM
控制范围 量程比50:1, 100:1可选
响应时间 ≤1.0sec
精度等级 ≤ 设定值的±1%
线性度 ≤ 满量程的 0.5%
重复性 ≤ 满量程的± 0.2%
耐压 橡胶：Max 1.5 MPa ;金属：Max 3 MPa
气体质量流量控制器 MFCW-08 Model
薄膜沉积
离子注入
刻蚀工艺
单晶圆清洗
测量介质 气体
量程范围(N2 Eqv) 500SLM-2000SLM
控制范围 量程比50:1, 100:1可选
响应时间 ≤1.0sec
精度等级 ≤ 设定值的±1%
线性度 ≤ 满量程的 0.5%
重复性 ≤ 满量程的± 0.2%
耐压 橡胶：Max 1.5 MPa ;金属：Max 3 MPa
气体质量流量控制器 MFCW-09 Model
薄膜沉积
离子注入
刻蚀工艺
单晶圆清洗
测量介质 气体
量程范围(N2 Eqv) 10SCCM-20SLM
控制范围 量程比50:1, 100:1可选
响应时间 ≤1.0sec
精度等级 ≤ 设定值的±1%
线性度 ≤ 满量程的 0.5%
重复性 ≤ 满量程的± 0.2%
耐压 橡胶：Max 1.5 MPa ;金属：Max 3 MPa
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